【“国产版7nm芯片制造技术取得突破”】对于外界“没有EUV光刻机就无法实现下一代工艺开发”的质疑，梁孟松今年2月提到，在当下的计划中，N+1和N+2工艺都不会使用EUV设备，等到设备就绪以后，N+2才会转而使用EUV设备。 ”#中芯国际7nm制程“取得突破”# ​